第八十五章 断供 (第1/2页)
百刹提示您：看后求收藏（无错小说网www.conso-yamaguchi.net），接着再看更方便。
东京应化、jsr、住友化学、富士胶片占据光刻胶市场70%以上的市场份额。
光刻胶一旦断供，晶圆厂就得停工。
无疆微电子公司总不能把希望一直寄托于rb人的善良和好心，认为他们不会断供吧。
光刻胶的市场并不大，10亿美元不到，但极其重要。
前世，国内无论是光刻机，还是光刻胶，都被国外拿捏。
光刻胶的生产难度也非常高，不单单是其配方，最难攻破的还是工艺，其中，曝光设备和感光检测设备远远落后于国外。
另外，rb还在光引发剂、树脂等光刻胶重要原材料领域，同样具备较高的垄断程度。
所以赵烨现在要研制光刻胶，既要研究光刻胶配方与工艺，还要投入资金研究和生产光引发剂、树脂等光刻胶重要原材料，投资比较大，但是投资再大也要去做。赵烨不去做的话，国内就没有人去做了。
试想，一旦光刻胶断供，晶圆厂停工，那赵烨在无疆微电子公司投资的那么多的人力和财力，都等于是浪费了。
赵烨相信，以美国为首的西方国家，绝对能够做得出来。
所以，自力更生，才是王道。
黄昆、秦国刚、王守武、王圩等院士们很热衷于帮助赵烨建立“无疆光刻胶有限公司”。
于是，赵烨就把这件事托付给他们负责，自己最后出钱就是了。
……
光刻胶占据电子材料至高点，对于国家的发展至关重要。
上游原材料且不提，主要是中游制造，主要分为：pcb光刻胶、lcd光刻胶、半导体光刻胶三种，分别对应着下游应用：pcb产业、面板产业、半导体产业。最后则是电子产品应用终端，比如手机、家电、航空航天、汽车电子等等。
不难看出，发展光刻胶对于一个国家科研、工业产业等发展至关重要。
前世，半导体光刻胶按照曝光波长不同可分为g线（436nm）、i线（365nm）、krf（248nm）、arf（193nm）以及新兴起的euv光刻胶5大类，高端光刻胶指krf、arf和euv光刻胶，等级越往上其极限分辨率越高，同一面积的硅晶圆布线密度越大，性能越好。
当前的半导体制程还不那么先进，主流工艺在800-1200nm之间，因此波长436nm的光刻光源就够用。
中国在70年
更多内容加载中...请稍候...
本站只支持手机浏览器访问，若您看到此段落，代表章节内容加载失败，请关闭浏览器的阅读模式、畅读模式、小说模式，以及关闭广告屏蔽功能，或复制网址到其他浏览器阅读！
本章未完，请点击下一章继续阅读！若浏览器显示没有新章节了，请尝试点击右上角↗️或右下角↘️的菜单，退出阅读模式即可，谢谢！
